物質系専攻の修士課程１年 吉田遥希さん（喜多研究室）が、2025年1月22日～24日に静岡県沼津市で開催された第30回 電子デバイス界面テクノロジー研究会（EDIT30）にて、若手奨励賞【安田幸夫賞 ポスター講演】を受賞しました。

発表題目：4H-SiC表面に対するNラジカル窒化とNOアニール窒化の表面N密度飽和挙動を決定する因子の違い

受賞者一覧：https://edit-ws.jp/awards/